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銅箔系列中間體

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產(chǎn)品分類
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產(chǎn)品代號:
產(chǎn)品名稱: 銅箔系列中間體
參考配方: 電解銅箔工藝配方

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QS 多肽蛋白         

性狀:白色或淡黃色粉末

作用與機(jī)理:

QS是本公司定制的專用于電解標(biāo)箔和鋰電箔用的多肽蛋白,分子量2000-3000,其在電解液中具有較強(qiáng)的抑制作用,使電解的銅箔有整平光亮效果,能消除銅箔脆性,防止翹曲。單臺機(jī)電流22000A 24小時參考用量:300-800g;

QS含量偏高會導(dǎo)致:銅箔毛面結(jié)晶粗糙,平滑度變差,陰極輥易氧化,銅箔毛面峰型不均,解決方法為減少添加量、增加碳吸附和大電流電解消耗。

QS含量偏低會導(dǎo)致:銅箔毛面峰值高,銅箔光澤度下降,毛面容易發(fā)花,拉箔時容易出現(xiàn)撕邊現(xiàn)象,銅箔易翹曲,解決方法為增加QS添加量。

 

SPS 聚二硫二丙烷磺酸鈉

性狀:白色粉末

作用與機(jī)理:

SPS是本公司定制的專用于電解鋰電箔用的促進(jìn)劑,產(chǎn)品純度高,無氯離子等副產(chǎn)物,使電解的銅箔有晶粒細(xì)化整平光亮、防毛刺產(chǎn)生效果。單臺機(jī)22000A 24小時參考用量:260-900g;

SPS含量偏高會導(dǎo)致:銅箔內(nèi)應(yīng)力過高,銅箔抗拉強(qiáng)度衰變加快,銅箔光澤度過高,嚴(yán)重過量為箔面發(fā)花變脆產(chǎn)生針孔,解決方法為減少添加量、增加碳吸附和大電流電解消耗。

SPS含量偏低會導(dǎo)致:銅箔光澤度下降至銅箔表面出現(xiàn)豎狀發(fā)粗條紋,銅箔結(jié)晶變粗,生箔時銅箔邊部易出現(xiàn)毛刺生箔時容易產(chǎn)生撕邊現(xiàn)象,解決方法為增加S添加量。

 

AESS 脂肪胺聚氧乙烯醚

性狀:棕黃色液體

作用與機(jī)理:

AESS是一種抑制劑,電解液中重要的基礎(chǔ)潤濕劑,具有較好的消除針孔效果,可完全替代P,多加不降低銅箔延展率單臺機(jī)22000A 24小時參考用量:250-500g;

AESS含量偏高導(dǎo)致:銅箔光澤度反而下降,銅箔毛面張力大,達(dá)因筆檢測不通過,解決方法為減少添加量和大電流電解消耗。

AESS含量偏低導(dǎo)致:生箔時陰極輥潤濕性差,銅箔表面易出現(xiàn)針孔,解決方法為增加添加量。

 

MDD 硫代甲酰胺基鈉鹽

性狀:白色粉末或片狀物

作用與機(jī)理:

MDD是本公司電解鋰電箔用的促進(jìn)劑,具有晶粒細(xì)化作用,光亮度效果沒有SPS強(qiáng),通常取代部分SPS使用,具有降低銅箔亮度作用。

MDD含量偏高導(dǎo)致:銅箔脆性變大,亮度減少,延伸率降低明顯,解決方法為減少添加量、增加碳吸附和大電流電解消耗。

MDD含量偏低導(dǎo)致:銅箔毛面顆粒感增加,沉晶粗,解決方法為增加添加量。

單臺機(jī)22000A 24小時參考用量:200-500g;

 

MDN 抗拉提升劑

性狀:白色結(jié)晶體

作用與機(jī)理:

MDN具有整平、光亮作用,適當(dāng)添加能提高電解銅箔的烘烤抗拉強(qiáng)度。

MDN含量偏高導(dǎo)致:銅箔脆性變大,亮度增加,毛刺和燒焦增加,延伸率降低明顯,解決方法為減少添加量、增加碳吸附和大電流電解消耗。

MDN含量偏低導(dǎo)致:銅箔抗拉強(qiáng)度無明顯提升,解決方法為增加添加量。

單臺機(jī)22000A 24小時參考用量:50-200g;

 

MDT-100改性聚醚

性狀:淡黃色液體

作用與機(jī)理:

MDT-100是一款特殊合成的非離子表面活性劑,可以使各單體在電解液中分散的更加均勻,使各單體更好的發(fā)揮作用,從而使銅在陰極輥上均勻沉積。MDT-100與其他表面活性劑不同的地方是,用量范圍特別寬,當(dāng)電解液中有強(qiáng)整平劑存在的情況下,添加MDT-100不容易使銅箔變的很亮,對由于強(qiáng)整平劑引起的翹曲也有較好的抑制效果,退火后抗拉強(qiáng)度變化很小。所以它特別適合與高抗劑配合使用,用于高抗高延配方中。建議電解液中參考用量5-8PPM。

 

QE 纖維素

性狀:白色或淡黃色粉末

作用與機(jī)理:

QE是本公司定制的專用于電解標(biāo)箔和鋰電箔用的低粘度纖維提高銅箔的平滑度,適量添加可降低電解銅箔毛面Rz值,提升銅箔的延伸率單臺機(jī)電流22000A 24小時參考用量:80-400g;

QE含量偏高會導(dǎo)致:銅箔卷曲,毛面結(jié)晶粗糙,陰極輥易氧化,污液罐泡沫增多,解決方法為減少添加量、增加碳吸附和大電流電解消耗。

QE含量偏低會導(dǎo)致:銅箔延伸率偏低,平滑度變差。解決方法為增加添加量

 

MDH 抗拉提升劑

性狀:白色結(jié)晶體

作用與機(jī)理:

MDH具有整平、快速提升亮度作用,適當(dāng)添加能提高電解銅箔的烘烤抗拉強(qiáng)度。

MDH含量偏高導(dǎo)致:銅箔毛面出現(xiàn)條紋,亮度超亮,毛刺和燒焦增加,延伸率降低明顯,解決方法為減少添加量、增加碳吸附和大電流電解消耗。

MDH含量偏低導(dǎo)致:銅箔抗拉強(qiáng)度無明顯提升,解決方法為增加添加量。

單臺機(jī)22000A 24小時參考用量:30-80g;




〖上一個產(chǎn)品:MDG 聚乙烯亞胺(1500-150000)〗    〖下一個產(chǎn)品:BESS 鍍鎳除雜走位劑


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