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產品展示
F-53 全氟辛基磺酸鉀
作用與機理:
鉻霧抑制劑加入鍍鉻槽內,對鍍液沒有不良影響,還能明顯改善鉻層微裂紋程度,提高鉻層硬度,增加結合力。
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HVEE 高效鍍硬鉻催化劑
作用與機理:
1. 陰極電流效率高達22~26%,是傳統(tǒng)標準鍍鉻工藝的2~3倍,節(jié)約能源。 2. 使用電流密度寬廣,30~90A/dm2均可,沉積…
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CE-198型稀土鍍鉻添加劑…
作用與機理:
使用CE-198添加劑工藝與原常規(guī)高鉻鍍工藝相比,具有鉻酐濃度低,深鍍能力強,電流效率高,施鍍溫度低等特點。CE-1…
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